EHD与Inkjet技术在智能眼镜微光学器件制造中的应用

 

AI眼镜、AR‑VR设备进入产业化爆发期，微透镜阵列、光波导耦合结构、光机功能涂层成为制约国产光学智能硬件迭代的关键瓶颈。传统光刻、模压工艺改样周期长、模具成本高，难以适配多品种快速迭代需求。上海睿度光电融合EHD电流体、压电喷墨双微喷工艺，搭配自研五轴精密运动平台，面向XR近眼显示赛道提供无掩膜微纳增材直写方案，助力国产微光学器件研发与小批量生产落地。

一、双工艺协同，覆盖多尺度光学功能墨水加工
睿度将EHD电流体喷射与压电喷墨集成于同一设备平台，实现飞升到皮升级液滴可控输出。EHD依靠电场诱导泰勒锥喷射，突破喷嘴尺寸限制，可实现亚微米级精细结构制备，适配高折射率光学胶、光敏聚合物，用于微透镜、超构表面微小单元直写；压电喷墨输出一致性优异，适合大面积均匀光学涂层、光机密封点胶作业。两套喷射单元灵活切换，兼顾实验室原型验证与小批量试制，规避传统工艺掩膜、开模带来的时间与资金成本。

二、五轴联动平台，攻克曲面光学元件共形沉积难题
区别于普通三轴平面加工设备，睿度五轴精密平台支持多自由度姿态调整，喷头可跟随曲面工件实时校正喷射角度，保证喷射方向始终垂直于元件表面。针对AR光波导曲面基板、VCSEL晶圆曲面、非球面光学镜片，实现多层光学膜层均匀沉积，有效解决曲面加工膜厚不均、边缘缺陷等行业痛点，微米级重复定位精度保障多层结构高精度套印成型。

三、面向XR产业，打通微光学器件工艺验证链路
当前AI眼镜、AR光波导、VCSEL传感模组市场快速增长，客户对定制化微光学结构需求旺盛。睿度整套微纳打印系统，可完成晶圆级微透镜阵列制备、光波导功能涂层、光机组件精密封装点胶等工序。设备开放工艺接口，面向光学企业、科研院所提供装备+工艺联合开发服务，缩短新品迭代周期，补齐国内XR上游微纳制造装备短板。

算力带动XR光学硬件持续迭代，微纳精密制造装备是实现技术突围的重要底座。睿度持续打磨EHD、压电喷墨、五轴联动一体化方案，深耕近眼显示微光学赛道，持续为国产光学智能硬件提供可靠装备支撑，推动国内XR产业链自主可控发展。

AI眼镜、AR‑VR设备进入产业化爆发期，微透镜阵列、光波导耦合结构、光机功能涂层成为制约国产光学智能硬件迭代的关键瓶颈。传统光刻、模压工艺改样周期长、模具成本高，难以适配多品种快速迭代需求。上海睿度光电融合EHD电流体、压电喷墨双微喷工艺，搭配自研五轴精密运动平台，面向XR近眼显示赛道提供无掩膜微纳增材直写方案，助力国产微光学器件研发与小批量生产落地。

一、双工艺协同，覆盖多尺度光学功能墨水加工
睿度将EHD电流体喷射与压电喷墨集成于同一设备平台，实现飞升到皮升级液滴可控输出。EHD依靠电场诱导泰勒锥喷射，突破喷嘴尺寸限制，可实现亚微米级精细结构制备，适配高折射率光学胶、光敏聚合物，用于微透镜、超构表面微小单元直写；压电喷墨输出一致性优异，适合大面积均匀光学涂层、光机密封点胶作业。两套喷射单元灵活切换，兼顾实验室原型验证与小批量试制，规避传统工艺掩膜、开模带来的时间与资金成本。

二、五轴联动平台，攻克曲面光学元件共形沉积难题
区别于普通三轴平面加工设备，睿度五轴精密平台支持多自由度姿态调整，喷头可跟随曲面工件实时校正喷射角度，保证喷射方向始终垂直于元件表面。针对AR光波导曲面基板、VCSEL晶圆曲面、非球面光学镜片，实现多层光学膜层均匀沉积，有效解决曲面加工膜厚不均、边缘缺陷等行业痛点，微米级重复定位精度保障多层结构高精度套印成型。

三、面向XR产业，打通微光学器件工艺验证链路
当前AI眼镜、AR光波导、VCSEL传感模组市场快速增长，客户对定制化微光学结构需求旺盛。睿度整套微纳打印系统，可完成晶圆级微透镜阵列制备、光波导功能涂层、光机组件精密封装点胶等工序。设备开放工艺接口，面向光学企业、科研院所提供装备+工艺联合开发服务，缩短新品迭代周期，补齐国内XR上游微纳制造装备短板。

算力带动XR光学硬件持续迭代，微纳精密制造装备是实现技术突围的重要底座。睿度持续打磨EHD、压电喷墨、五轴联动一体化方案，深耕近眼显示微光学赛道，持续为国产光学智能硬件提供可靠装备支撑，推动国内XR产业链自主可控发展。

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