芯片封装截面观察用飞纳台式电镜

Phenom XL G3 是飞纳推出的大仓室台式扫描电镜，可用于芯片封装截面观察，帮助分析封装层结构、裂纹、空洞和界面形貌。
Phenom XL G3 平均成像时间约 40 秒，可对最大 100 x 100 mm 的样品进行分析，适合较大尺寸样品或多样品检测场景。设备采用 CeB6 灯丝，电子光学放大倍数可达 200,000 X，分辨率优于 8 nm，适用于日常质检、研发分析、失效分析和样品测试等应用。
该产品具备大仓室样品台、低/中/高三种真空模式、背散射探测器，并可根据需求选配二次电子探测器和能谱探测器。具体配置和价格根据型号、功能及应用需求确定，可通过平台询价/留言入口获取官方选型建议，并预约试样。
 
产品特点：
1. 大仓室设计，可分析最大 100 x 100 mm 样品。
2. 平均成像时间约 40 秒，适合多样品观察和日常检测。
3. 电子光学放大倍数可达 200,000 X，分辨率优于 8 nm。
4. 采用 CeB6 灯丝，使用寿命优于 3000 小时。
5. 支持低、中、高三种真空模式，适合多类材料样品。
6. 标配背散射探测器，可选配二次电子探测器和能谱探测器。
7. 台式设计，适合实验室日常部署与使用。
8. 支持官方选型咨询，可预约试样。
 
应用领域：
可用于芯片封装截面观察、半导体封装失效分析、电子材料截面分析和研发质量控制。
 
技术参数：
产品型号：Phenom XL G3
产品全称：XL 大仓室自动化电镜
产品类型：大仓室台式扫描电镜
光学放大：3 - 19 X
电子光学放大：200,000 X
分辨率：优于 8 nm
电子枪：CeB6 灯丝，使用寿命优于 3000 小时
光学导航相机：彩色
平均成像时间：约 40 秒
最大样品尺寸：100 x 100 mm
样品承载：可同时容纳 36 个样品
加速电压：基本模式 2 kV、5 kV、10 kV、15 kV、20 kV
高级模式：4.8 kV - 20.5 kV 连续可调
真空模式：低 / 中 / 高三种模式
探测器：背散射探测器
可选探测器：二次电子探测器、能谱探测器
 
常见问题：
1. 这款设备适合哪些样品？适合较大尺寸样品、多样品检测以及常规材料形貌观察。
2. 是否可以做元素分析？设备可根据需求选配能谱探测器，用于颗粒、异物或局部区域的元素分析。
3. 价格是多少？价格根据设备配置、探测器选项、应用需求和服务方案确定，可通过平台询价入口获取官方选型建议，并预约试样。
 
如需了解 Phenom XL G3 在芯片封装截面观察中的配置方案、应用资料或报价信息，可通过平台询价/留言入口提交样品类型与测试需求，获取官方选型建议，并预约试样。
 

复纳科学仪器（上海）有限公司，2012 年创立于上海，为高校，企业和研究所提供台式扫描电子显微镜，及与台式扫描电镜相关的技术支持和测试服务。复纳科学仪器（上海）有限公司成立以来，一直专注显微技术，致力于实现扫描电镜平民化。飞纳电镜——复纳科学仪器（上海）有限公司为用户提供从扫描电镜基础理论到 Level 5 应用工程师的进阶培训，在上海、北京、广州、成都设立了测试中心和售后服务中心，目前飞纳电镜在中国已经拥有超过 2000 名用户。

2017 年起，复纳与荷兰 Sioux 集团（ASML 光刻机研发供应商）合作开发基于分析仪器的数字化应用解决方案；2018 年，复纳引入并组建以 VSParticle 纳米粒子发生器、ForgeNano 原子层沉积系统（美国）为主要产品的纳米部门。复纳又陆续引进海外优质高科技设备：Technoorg Linda 离子研磨仪、DENSsolutions 原位透射样品杆、NEOSCAN 台式显微 CT 到中国，旨在提高分析结果准确性，提升仪器使用效率，节省人力成本。